ตัวยึดความแม่นยำ PVD เครื่องชุบฟิล์มบาง / Nano ฟิล์มบาง PVD ตกแต่งเสร็จสิ้น
PVD คืออะไร?
PVD (ชื่อย่อของ Physical Vapor Depositไอออน) คือกระบวนการเคลือบสูญญากาศเพื่อผลิตฟิล์มบางที่ทำจากโลหะที่เป็นรูปทรงกลมซึ่งสามารถนำมาวางบนผิวที่นำไฟฟ้าได้อย่างสม่ำเสมอ การใช้วิธีการระเหยไอออนด้วยไอออนและวิธี magnetron MF สปัตเตอร์ ทำให้ชั้นเคลือบผิวเดี่ยวมีความครอบคลุมโดยไม่ต้องปรับเปลี่ยนรูปทรงของพื้นผิว เทคนิคนี้ใช้ในอุตสาหกรรมอิเล็กทรอนิกส์จำนวนมากรวมทั้งสื่อออปติคอลเลนส์และส่วนประกอบของเซมิคอนดักเตอร์
PVD คุณสมบัติฟิล์มบาง
ตัวยึดความแม่นยำ PVD เครื่องเคลือบฟิล์มบางถูกนำมาใช้กับ รัดและอุปกรณ์เช่นสกรูน๊อต crushes ส่วนควบใช้ในเครื่องสำอางผลิตภัณฑ์อิเล็กทรอนิกส์เครื่องจักรกลอุตสาหกรรมยานยนต์มีการใช้เทคโนโลยี PVD เพื่อรับความหลากหลายของ Panton สีช่วงของ ทอง, ดำ, ฟ้า, เทา, เงิน, รุ้ง, บรอนซ์, แชมป์ ฯลฯ
ตัวยึดความแม่นยำ PVD เครื่องชุบฟิล์มบาง
แหล่งที่มาของวงกลมแบบวงกลมสำหรับการระเหยของโลหะที่เป็นของแข็ง
2 คู่ของ MF unblanced สปัตเตอร์ cathodes สำหรับการสะสมตัวฟิล์มบางกราไฟท์
แหล่งจ่ายไฟอคติสำหรับเครื่องบินทิ้งระเบิดไอออนเพื่อสร้างพื้นที่พลาสม่าสำหรับการบำบัดก่อน
ชุดแหล่งไอโอดีนหลอดไอโอดีน (สำหรับอุปกรณ์เสริม) การประมวลผล PACVD และ PECVD;
Cryopump (Polycold) สำหรับการควบแน่นของโมเลกุลน้ำ (สำหรับอุปกรณ์เสริม)
เครื่องเชื่อม Precisไอออน PVD โครงสร้างเครื่องเคลือบฟิล์มบางเฉียบ
1. ห้องสุญญากาศ
2. ปั๊มสูญญากาศแบบรูจิ่ง (ชุดปั๊มสำรอง)
3. เครื่องสูบน้ำสูญญากาศสูง (Magnetically Suspensไอออน Molecular Pump)
4. ระบบควบคุมและการใช้ไฟฟ้า
5. ระบบสิ่งอำนวยความสะดวก Auxiliarry (ระบบย่อย)
6. ระบบการสะสม: MF สปัตเตอร์ cathode, แหล่งจ่ายไฟ MF, แหล่งจ่ายไฟ Bias แหล่งไอออนสำหรับอุปกรณ์เสริม
รัด Precisไอออน PVD ฟิล์มบาง
1. แรงดันสูญญากาศสูงสุด: ดีกว่า 5.0 × 10 - 6 Torr
2. ใช้ความดันสูญญากาศ: 1.0 × 10-4 Torr.
3. ระยะเวลาในการสูบน้ำ: ตั้งแต่ 1 atm ถึง 1.0 x 10-4 Torr≤ 3 นาที (อุณหภูมิห้องแห้งและสะอาด)
4. Metalizing วัสดุ (สปัตเตอร์ + เส้นโค้ง ระเหย): Ni, Cu, Ag, Au, Ti, Zr, Cr, ดีบุก, TiC, TiAlN, CrN, CrC ฯลฯ
5. รูปแบบการดำเนินงาน: เต็มอัตโนมัติ / กึ่งอัตโนมัติ / ด้วยตนเอง
สายรัด Precisไอออน PVD แผ่นฟิล์มบาง
| MODEL | RTAC1250-SPMF | ||||||
| เทคโนโลยี | MF Magnetron สปัตเตอร์ + ไอออนชุบ | ||||||
| วัสดุ | สแตนเลส (S304) | ||||||
| ขนาดห้อง | Φ1250 * H1250mm | ||||||
| ประเภทของห้อง | กระบอกแนวตั้ง 1 ประตู | ||||||
| ระบบ สปัตเตอร์ | ออกแบบพิเศษสำหรับการสะสมฟิล์มสีดำบาง ๆ | ||||||
| วัสดุที่ใช้ในการปันส่วน | อลูมิเนียม, เงิน, ทองแดง, โครเมี่ยม, สแตนเลส, นิกเกิล | ||||||
| แหล่งข้อมูลการหักล้าง | 2 ชุดเป้าหมายการสเปรย์กระบอกสูบกระบอกสูบ MF + แหล่งกำเนิดแหล่งกำเนิด Cathodic เส้นโค้ง 8 แห่ง + แหล่งไอออนสำหรับอุปกรณ์เสริม | ||||||
| แก๊ส | MFC-4 วิธี, Ar, N2, O2, C2H2 | ||||||
| ควบคุม | PLC (โปรแกรมควบคุม Logic Controller) + | ||||||
| PUMP SYSTEM | SV300B - 1 ชุด (Leybold) | ||||||
| WAU1001 - 1 ชุด (Leybold) | |||||||
| D60T- 1 ชุด (Leybold) | |||||||
| ปั๊มโมเลกุลเทอร์โบ: 2 * F-400/3500 | |||||||
| การรักษาก่อน | แหล่งจ่ายไฟอคติ: 1 * 36 KW | ||||||
| ระบบความปลอดภัย | interlocks ความปลอดภัยจำนวนมากเพื่อปกป้องผู้ประกอบการ | ||||||
| COOLING | น้ำเย็น | ||||||
| POWER ELECTRICAL | 480V / 3 เฟส / 60HZ (ตามมาตรฐาน USA) | ||||||
| 460V / 3 เฟส / 50HZ (ตามมาตรฐาน Asia) | |||||||
| 380V / 3 เฟส / 50HZ (สอดคล้องกับ EU-CE) | |||||||
| รอยเท้า | L3000 * * * * * * * * W3000 H2000mm | ||||||
| น้ำหนักรวม | 7.0 T | ||||||
| รอยเท้า | (L * W * H) 5000 * 4000 * 4000 MM | ||||||
| CYCLE TIME | 30 ~ 40 นาที (ขึ้นอยู่กับวัสดุรองพื้น, เรขาคณิตพื้นผิวและสภาวะแวดล้อม) | ||||||
| POWER MAX .. | 155 กิโลวัตต์ | ||||||
| POWER เฉลี่ย การบริโภค (APPROX.) | 75 กิโลวัตต์ |
นอกจากนี้ยังมีขนาดเครื่องที่กำหนดเองตามผลิตภัณฑ์ที่กำหนดไว้
กรุณาติดต่อเราเพื่อขอรายละเอียดเพิ่มเติม Royal Technology รู้สึกเป็นเกียรติอย่างยิ่งที่ได้มอบโซลูชั่นการเคลือบทั้งหมด
