| ความหนา | 0.5 ~ 3 ไมครอน |
|---|---|
| สี | กุหลาบทอง, ทองแดง, น้ำเงิน, ทอง TiN, ทองอ่อน, ดำเป็นต้น |
| เทคโนโลยีเคลือบ PVD | เคลือบผิวแบบ Cathodic Arc + MF magnetron Sputtering |
| ที่ตั้งโรงงาน | เมืองเซี่ยงไฮ้ ประเทศจีน |
| ที่ตั้งโรงงาน | เมืองเซี่ยงไฮ้ ประเทศจีน |
| ความกว้าง Web Roll | ความกว้างไม่กี่นิ้ว ถึง 10 ฟุต |
|---|---|
| การใช้งาน | อุตสาหกรรมบรรจุภัณฑ์ อิเล็กทรอนิกส์ พลังงานแสงอาทิตย์ การต่อต้านการปลอมแปลง สารเคลือบสะท้อนแสง และกา |
| ความหนาของการเคลือบ | Thin Film 20~40nm; ฟิล์มบาง 20~40 นาโนเมตร; Heavy Film Up To 1~2 Microns ฟิล |
| น้ำหนักม้วนของเว็บ | พันปอนด์ |
| วัสดุ Web Roll | ฟิล์มพลาสติกโพลีเมอร์ เช่น PET, BOPP, CPP, PVC, PI, โลหะผสม, กระดาษ, กระดาษหิน |
| แหล่งที่มาของการสะสม | Cathodic Arc + MF Sputtering Cathode |
|---|---|
| เทคนิค | PVD, สมดุล / ไม่สมดุล Magentron Sputtering Cathode |
| แอพพลิเคชัน | Al2O3, แผงวงจรเซรามิกของ AlN, แผ่น Al2O3 บน LED, เซมิคอนดักเตอร์ |
| คุณสมบัติของฟิล์ม | ความต้านทานการสึกหรอการยึดเกาะที่แข็งแกร่งสีเคลือบตกแต่ง |
| ที่ตั้งโรงงาน | เมืองเซี่ยงไฮ้ ประเทศจีน |
| แหล่งที่มาของการสะสม | Cathodic Arc + MF Sputtering Cathode |
|---|---|
| เทคนิค | PVD, สมดุล / ไม่สมดุล Magentron Sputtering Cathode |
| คุณสมบัติการชุบ PVD | ความต้านทานการสึกหรอสูง, ความแข็งสูงที่อุณหภูมิการทำงานสูง, ความต้านทานการเกิดออกซิเดชันสูงแรงเสียดท |
| คุณสมบัติของอุปกรณ์ | เชื่อถือได้ยืดหยุ่นยืดหยุ่นออกแบบแข็งแกร่งให้ผลเร็วรอบเร็วความจุสูง |
| ที่ตั้งโรงงาน | เมืองเซี่ยงไฮ้ ประเทศจีน |
| แหล่งระเหย | ถ้วยใส่ตัวอย่างโมลิบดีนัม |
|---|---|
| วัสดุสะสม | Cs I การสะสมสูญญากาศ |
| แอปพลิเคชั่น | หน้าจอเอ็กซ์เรย์ทางการแพทย์, การถ่ายภาพทางทันตกรรม, การตรวจสอบความปลอดภัย, ฟิสิกส์พลังงานสูง |
| ที่ตั้งโรงงาน | เมืองเซี่ยงไฮ้ ประเทศจีน |
| บริการทั่วโลก | Poland - Europe; โปแลนด์ - ยุโรป; Iran- West Asia & Middle East, Turkey, India, |
| เทคโนโลยีการเคลือบ | DC & MF แมกนีตรอนสปัตเตอริง |
|---|---|
| คุณสมบัติของอุปกรณ์ | โครงสร้างที่แข็งแกร่ง การออกแบบรอยเท้าที่กะทัดรัด ประสิทธิภาพสูงและการควบคุมการทำงานที่แม่นยำ |
| คุณสมบัติการเคลือบ | สะท้อนแสงสูง ทนต่อการกัดกร่อนและการสึกหรอได้ดีเยี่ยม |
| การควบคุมการทำงาน | การควบคุม PLC และ IPC ที่ใช้งานง่าย |
| บริการและการฝึกอบรม | มีจำหน่ายจากวิศวกรและช่างเทคนิคของสหรัฐอเมริกา |
| แหล่งที่มาของการสะสม | Cathodic Arc + MF Sputtering Cathode |
|---|---|
| เทคนิค | PVD, สมดุล / ไม่สมดุล Magentron Sputtering Cathode |
| แอพพลิเคชัน | สกรูน๊อตกล้องโลหะ |
| คุณสมบัติของฟิล์ม | ความต้านทานการสึกหรอการยึดเกาะที่แข็งแกร่งสีเคลือบตกแต่ง |
| ที่ตั้งโรงงาน | เมืองเซี่ยงไฮ้ ประเทศจีน |
| ความกว้าง Web Roll | ความกว้างไม่กี่นิ้ว ถึง 10 ฟุต |
|---|---|
| ความหนาของการเคลือบ | Thin Film 20~40nm; ฟิล์มบาง 20~40 นาโนเมตร; Heavy Film Up To 1~2 Microns ฟิล |
| น้ำหนักม้วนของเว็บ | พันปอนด์ |
| ชื่อ | เครื่องเคลือบฟิล์มแบบม้วนต่อม้วน (R2R) |
| รุ่น | RT-R2R |
| ห้อง | การวางแนวตั้ง 2 ประตู |
|---|---|
| วัสดุ | สแตนเลส 304/316 |
| แหล่งที่มาของการสะสม | DC สปัตเตอร์แคโทด |
| เทคนิค | PVD, แคโทดสปัตเตอร์ Magentron สมดุล/ไม่สมดุล |
| แอปพลิเคชั่น | ตกแต่งเครื่องประดับ นาฬิกา เคลือบฟิล์มนำไฟฟ้า ฟิล์มโลหะ อิเล็กทรอนิกส์ เซลล์เชื้อเพลิง พลังงานฟิสิกส |
| เทคโนโลยี | แมกนีตรอนสปัตเตอริงแบบไม่สมดุลย์แบบพัลซิ่งแบบปิด |
|---|---|
| เป้าหมาย | Ta, Ni, Cr, Ti, Au, Ag, SS, Cu, Zr, Al เป็นต้น |
| การรับประกัน | 12 เดือน CE ได้รับการรับรอง |
| การเคลือบผิว | เครื่อง PVD, เคลือบสูญญากาศ |
| ให้บริการหลังการขาย | วิศวกรที่พร้อมให้บริการเครื่องจักรในต่างประเทศ บริการบำรุงรักษาและซ่อมแซม การติดตั้ง การว่าจ้างและกา |
